词条 | 光阻 |
释义 | 光阻 光阻,亦称为光阻剂,是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。 光阻的类别 光阻有两种,正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist) 正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。 负向光阻是光阻的一种,其照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。 在紫外线和短波长的吸收 光阻通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)。例如DNQ在300纳米到450纳米间有很强的吸收。 正型光阻剂及负型光阻剂主要是应用在LED芯片制造的金属电极蒸镀Lift-off制程中,由于LED电极所使用的金属材料不易经由蚀刻的方式制作电路图形,所以利用拔起(Lift-off)微影制程,得到突起的(Overhang)光阻图形,使金属在蒸镀过程中不会连续性满布在光阻剂上,再用去光阻剂的方式将未遭金属布盖的光阻部分拔起,完成金属电极的图案。 半导体制程常用的正型光阻剂,在光学曝光方式下,光阻剂上层接受能量较下层光阻高,使得正型光阻剂成像大部分图形为上窄下宽,无法经一次曝光方式即得到Overhang的图形,而负型光阻剂的成像恰好与正型光阻剂图像相反,所以负型光阻剂是lift-off制程的最佳选择。 作者:LED小知识 光阻液 光阻材料简介 光阻主要由树脂(resin),感光剂(sensitizer),溶剂(solvant)三种成分混合而成。 光阻种类: 光阻分为正光阻及负光阻两种。 1. 正光阻: 光阻本身难溶于显影液,曝光后解离成小分子,形成容易溶于显影液的结构。 2. 负光阻: 曝光后形成不容易溶于显影液的结构。 一般Array photo process 对正型光阻的需求如下: 1. 涂布Coating: Thickness uniformity and Mura free. 2. 曝光Exposure: Photospeed. 3. Development: Thickness loss, taper and process window. 4. Postbaking: Heat resistance and reflow. 5. Etching: Etching resistance and adhesion. 6. Stripping: Resist removability. |
随便看 |
百科全书收录4421916条中文百科知识,基本涵盖了大多数领域的百科知识,是一部内容开放、自由的电子版百科全书。