介绍

ATO主要由氧化锡和氧化锑成分来构成，粒径大部分在20-80纳米。

氧化锡和氧化锑的不同比例所决定不同的性能和应用领域。

广泛应用于半导体、电子显现管、LED、节能环保（隔红外，隔紫外）、防静电、防辐射等领域。

其主要成分比例为SnO2：Sb2O3=90：10或SnO2：Sb2O3=95：5为比较常见。

物理特性

指标名称　ATO-P100

外观　蓝色粉体

成份　锑锡氧化物

比表面积　50㎡/g

配比　SnO2：Sb2O3=95：5或其他配比

比重　压实密度：2.0 g/cm3

比电阻　30Ω.cm2（压块）

纯度　≥99.95%(基于金属杂质)特性

导电性

均匀分散的导电纳米超微粒子的相互作用形成导电膜，导电膜中电荷移动可实现高透射率和防静电（30Ω.cm2）

透明性

ATO纳米超微粒子对可视光（380nm-780nm）的吸收率极弱，而且对可视光难以散射的大小粒子组成，所以有着高的透明性

隔红外、隔紫外、防辐射性能

能有效地阻止红外辐射和紫外线辐射，阻隔红外效果达80%以上，阻隔紫外效果达65%以上。

应用领域

真空磁控溅射靶材

装饰和功能镀膜工业 Decorative & coatings

利用物理或者化学气相沉积镀膜，使工件增加防静电性能能，防辐射性能等。

建筑玻璃/汽车玻璃工业、柔性卷绕镀膜工业

用于大面积磁控溅射镀膜，如建筑玻璃，汽车玻璃，低辐射玻璃，薄膜太阳能电池、ATO Film等工业，增加隔热性能、隔紫外性能、防辐射性能、防静电性能等。

光学镀膜工业

适用于TFT，FED，PDP, OLED和CF（彩色滤光片）等各种显示器基础元件的镀膜及大规模集成电路镀膜领域。