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词条 液相沉积
释义

Liquid-Phase Deposition(LDP)

液相沉积从属于半导体生长工艺的液相外延技术。

利用LDP工艺生长SiO2是新近发展起来的技术。溶液采用过饱和的氟硅酸溶液,利用其和水的如下反应:

H2SiF6 + H2O → SiO2 + 6 HF

根据如上反应,当H2SiF6的浓度、H2O的含量增加或是HF的浓度降低时,便发生 SiO2的沉积。

目前,已有采用向溶液中添加H3BO3、Al或水的方式来加快SiO2的沉积。

沉积的速率在0.001~0.007 nm/s,这取决于溶液的组成。其速率远小于热氧化的生长速率((100))面,1000 ℃ 时大约 0.1 nm/s。

当前,已可以采用LPD沉积的金属的氧化物有:Ti、Sn、Zr、V、Cd、Zn、Ni、Fe、Al等。

和其他氧化物工艺相比,LPD有自己的优势:低温,廉价,基底的多样性等;热氧化生成的氧化膜的综合质量较好,但较高的氧化温度导致的热应力也会造成缺陷态的存在;电化学沉积过程中电流通路的存在导致膜的致密性差,疏松等。

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更新时间:2024/12/23 14:24:15