电子束曝光是用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂，经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。

对正性抗蚀剂，在显影后经电子束照射区域的抗蚀剂被溶解掉，而未经照射区域的抗蚀剂则保留下来；对负性抗蚀剂则情况相反。

电子束曝光有投影（又称为电子束面曝光）和扫描（又称为电子束线曝光）两种工作方式。

电子束投影方式与光刻过程类似，是将掩模版上的图形转换成衬底表面介质的图形的过程。

这种曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工艺容限

大，而且生产效率高，但由于电子束在光刻胶膜内的散射，

使得图案的曝光剂量会受到临近图案曝光剂量的影响（即临

近效应），造成的结果是，显影后，线宽有所变化或图形畸

变。虽然如此，限角度投影式电子束光刻仍是目前最具前景

的非光学光刻 。