高压纯化器(High Pressure Purifier)

　气体工业名词，在高压下脱除气体中杂质的装置。在半导体工业中，高压纯化器主要用于提供配制混合气的底气，即提供高纯或超高纯氮，氢，氩，氦。在大规模集成电路制造中，要求底气纯度为99199999%以上。多采用低温吸附法：即以活性炭或硅胶为吸附剂，在液氮温度下根据吸附剂对杂质的选择性吸附作用脱除气体中杂质。也可以采用各种催化剂。高压纯化器的工作压力愈高，吸附剂的吸附容量会加大，但设备投资也增加。通常压力在10～15MPa。小型高压纯化器，通常长15cm，直径5cm，用于除去气流中的油，水和粒子，可直接安装在大多数气瓶上，能承受21MPa的压力，但用于氧气时，压力限制在315MPa以内。