公司简介

产品介绍

人力资源

公司简介

上海微电子装备有限公司坐落于国家级高新技术园区——张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

公司致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候、全方位、全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务

公司已通过ISO27001信息安全、ISO9000质量管理和ISO14001环境管理等体系的国际认证，力求为客户提供持续 、稳定、高品质的产品和服务，并履行一个优秀的高科技企业的社会责任

公司已建立了一整套与高科技企业相适应的知识产权管理体系与机制，是全国企事业知识产权示范创建单位和上海市专利工作、知识产权示范企业

产品介绍

600扫描光刻机系列—前道IC制造

基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500步进光刻机系列—后道IC、MEMS制造

基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及TSV-3D结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

200光刻机系列—AM-OLED显示屏制造

200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED显示屏量产线。

硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用

SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力，设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片，边缘曝光精度可到达0.1mm。设备配置了高功率光源，具有较高的硅片面照度，提高了设备产率。

精密温控系列—光刻机、刻蚀机应用

SMEE为集成电路行业提供多种超/高精度温度控制装置，可分别用于半导体前道设备中的扫描光刻机和各种用途的刻蚀机等设备的精密温度控制，也可应用于精密光学、仪器、精密机床制造及各种科学实验场所。温度精度可达0.01℃，控温范围可达-30℃至90℃。

精密温度控制解决方案

SMEE提供各种类型的超高精度温度控制全面解决方案，可按客户具体需求提供从设计、制造、安装、调试到维护的一条龙服务，可应用于光学镜头、光栅、精密元件、精密仪器和精密机床制造等领域，尤其适合于材料提纯、测试、测量和定位定准等各种科学实验场合。

人力资源

上海微电子装备有限公司自成立以来，一直致力于贯彻公司的人才发展战略：根据员工的能力、特长进行员工的职业生涯发展规划，通过科学、规范的管理和不断创新， 努力为员工搭建充分展示个人才华的舞台，让所有加入 SMEE 的员工能充分发掘自己的潜力，成就个人事业，创造人生价值。伴随着公司实力的不断壮大，团队建设水平的不断提升，实现员工与公司的共同成长。

公司拥有一支500多人的多学科、高技术的人才队伍和完善的产品开发手段和设备，以及支撑微电子装备研发的光学、机械、电气控制、微环境等多学科软硬件测控技术平台，可进行集成电路关键设备—光刻机的设计、制造集成、测试和工艺试验，技术涉及光学、结构、动力学、精密运动和控制、软件工程、精密测量、微环境控制等众多领域。

公司依托国内高等学府优势人力资源，积极吸引国外先进智力，坚持系统工程的研发理念，通过加强与国内外优秀公司、学术机构的强强联合和优势互补，积极参与国际性的学术和技术交流活动，努力培养一支理念先进、方法科学、视野开阔的国际化人才团队及相适应的高技术研发工程能力。

上海微电子装备有限公司在为员工创造了理想职业家园的同时，为员工提供了富有竞争力的薪酬体系和福利待遇，并对特别优秀的员工采用灵活多样的激励措施，形成与岗位同具挑战性的薪资报酬。此外，公司广泛开展丰富多彩的业余文化生活，调动了员工的积极性和提高了员工的工作热情。