光刻机是刻集成电路的，做出来是芯片，光盘刻录机是刻光盘的，做出来是光盘，是两个完全不同的东东.

主要用于：集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产。

主要由：高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜、双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、多点光源（蝇眼）曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。

生产集成电路的简要步骤：

利用模版去除晶圆表面的保护膜。

将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

其中光刻机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版光刻机分为两种：

模版和晶圆大小一样，模版不动。

模版和集成电路大小一样，模版随光刻机聚焦部分移动。

其中模版随光刻机移动的方式，模版相对光刻机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。