光敏平面橡胶渗透印章，简称光敏章，又称为平面橡胶印章。光敏印章制作技术是于1998年初从日本引进我国大陆的。该印章具有方便、既印即干等特点，盖出印迹具有标准、规范，其制作工艺简单、快速。
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