MC-ICP-MC是一种联用的测量仪器，它首先由Walder等人于1993年引入的，主要是应用于同位素比值的测定。
在MC-ICP-MS中，ICP作为质谱的高温（8000K）离子源，样品在通道中进行蒸发、解离、原子化、电离等过程。离子通过样品锥接口和离子传输系统进入高真空的MS部分，MS部分为四极快速扫描仪，通过高速通道扫描分离测定所有原子，使形成的离子按质荷比（m/e)进行分离，不同的元素有不同的质荷比，扫描元素质量范围从6~260，通过高速双通道分离后的离子到达MC部分，MC部分是一组法拉第杯接收器，根据元素的分子离子峰进行定性定量的分析。
炬管位置 雾化器流速 碰撞流速等
等离子体炬管位置：即等离子体炬管与采样锥之间的距离，它显著影响仪器灵敏度，等离子体核心位置的温度约为8000K，而其边缘的温度约为4000K，当等离子体的火焰遇到采样锥的冷表面时，会形成一个“边界层”，这个边界层中的氧化物分子含量很高。如果等离子体采样锥距离较远，就会有大量氧化物被提取；如果采样锥距离等离子体核心位置过近，气溶胶就会被提取。从而影响到测量结果的准确度。
雾化器流速：它不仅影响到分析物在等离子体中的停留时间，而且影响氧化物、双电荷离子和多原子离子以及分子干扰物的产率。当雾化器流速过高时，氧化物的量会增加；当流速过低时，双电荷离子的量会增多。