| 词条 | 薄膜晶体管(TFT)阵列制造技术 |
| 释义 | 图书信息书 名: 薄膜晶体管阵列制造技术 作 者：谷至华 出版社： 复旦大学出版社 出版时间： 2007年09月 ISBN: 9787309056556 开本： 16开 定价: 45.00 元 内容提要高质量的平板显示器的核心是薄膜晶体管（Thinfilmtransistor,TFT）矩阵的特性和制造技术。这本书主要介绍非晶硅（amorphoussilicon，a-Si）TFT阵列大规模生产的制造技术。 全书共13章，从TFT元件的结构及特点，到TFT检查与修复。包括TFT阵列制作清洗工艺，成膜工艺，光刻工艺，不良解析和检查修复。从TFT阵列大规模制造的角度，第一次比较全面的介绍了TFT-LCD生产线的TFT阵列制造工艺技术，工艺参数，生产工艺技术管理，工艺材料规格，设备特性，品质控制，产品技术解析。以工艺原理，设备参数控制，材料特性要求，生产工艺文件要求等大规模生产技术要素为核心，比较完整的介绍了现代化信息制造业的工艺流程与工艺管理。 本书可作为平板显示行业工程师，技术人员，管理人员的参考用书，也可供高等院校相关专业方向研究人员，研究生以及相关行业从业人员参考。 目录引言 第一章 TFTLCD生产线建设 第二章 TFT元件的结构及特点 第三章 TFT工艺概述 第四章TFT阵列制作清洗工艺 第五章 溅射成膜（金属膜） 第六章 CVD成膜（非金属膜） 第七章 曝光与显影工艺技术 第八章 湿刻工艺技术 第九章 干刻工艺技术 第十章 光刻胶剥离与退火 第十一章 缺陷解析技术 第十二章 TFT检查与修复 第十三章 TFT制造工艺小结与技术展望 参考文献 |
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