| 词条 | 曝光机 |
| 释义 | 基本概念曝光机是指通过开启灯光，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。 胶片或其他透明体上的图像信息的不同精密度对曝光机的灯源有不同的要求。图像的线宽与线之间的距离小于0.04MM就要用到平行光曝光机。 例如：胶印机上用来沾油墨印刷的PS版就是使用PS版曝光机将胶片上的图像转移到涂有感光材料的PS版上。 将胶片上的图像转移到胶片上，阴片转成阳片或相反，使用的是胶片曝光机又称复片机，拷贝机。 将胶片或硫酸纸上的图文转移到涂有感光物质的丝网版上的设备是丝网版曝光机。 将重氮片（棕片）上的图转移到刚性线路板涂有感光湿膜的硬板上要用到7-10KW的双面曝光机。 将重氮片（棕片）上的图转移到柔性线路板贴有感光干膜的软板上要用到5KW的双面曝光机。 将胶片上的图转移到重氮片（棕片）上的设备是棕片曝光机。 常见曝光机举例 MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。 MDA-400M系统组件： 紫外光源构造 带托盘的晶片工作台 配CCD镜头的显微镜 监视器 掩膜夹具 紫外光源透镜 紫外光源镜片 紫外灯电源系统 操作控制器 350W紫外灯 MDA-400M参数： 晶片台 基底尺寸 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸； 托盘 标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸； 活动范围 X：10mm Y： 10mm Z ： 10mm Theta： 4 degree 对准精度 1um 挤入补偿 Air bearing型 Z轴滑动 手动 真空泵 无油真空泵 掩膜台 掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取 紫外光源 紫外灯 350 瓦 均匀光束大小 4.25“ X 4.25“ 曝光模式 压缩/真空/相邻 曝光时间控制 可编程控制型 曝光定时器 1 ~ 999.9 秒 应用范围用于半导体制造，光电电子，印刷制版，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。 |
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