§ 说明
一种用于调节制作半导体晶片的CMP装置的抛光垫的装置，该装置包括构造成至少部分地在一抛光垫之上延伸的一控制臂。
§ 附
该装置还包括连接至控制臂的至少一个圆柱形调节件，该控制臂构造成将所述至少一个圆柱形调节件施加至抛光垫。
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