PIII是等离子体浸入离子注入（Plasma Immersion Ion Implantation）的简称。对既有注入又有薄膜生长的方式一般PIII&D；对于只有注入的称为PIII。大量试验表明离子注入对于改变材料表面的磨损腐蚀疲劳和摩擦特性，对于改变材料表面的电学与光学等特性是十分有效的。在离子注入过程中从离子源引出的离子，在高压电场中被加速到高能状态，这种高能离子束注入固体材料表面后和表面薄层中基体粒子相碰撞逐渐失去原有的能量，最后静止在表面层中。这样被注入元素的原子和表面层中基体原子相互作用生成新的化合物，形成新的金相组织结构从而改变材料表面的物理与化学性能。

PIII是Intel的奔腾III系列CPU的简称。