| 词条 | 杜惊雷 |
| 释义 | 杜惊雷出生于1964年9月，现为四川大学物理学院教授，博士生导师。1983年南开大学物理系毕业；1988年于中科院长春光机所获理学硕士学位；1999年于四川大学物理系获理学博士学位；与英国卢瑟福实验室等国外大学或实验室开展微光学、微光刻、微电子等方面学术交流、合作研究。他主持或主研国家自然科学基金、教育部博士点基金、863课题、973子课题、横向课题等科研项目20余项。已在国内外学术刊物上发表论文120余篇，SCI收录论文数十篇。 个人履历杜惊雷，男，汉族，1964年9月生，四川大学物理学院教授，博士生导师。他现在主要招收衍射光学方向博士研究生，微电子光学、光电子器件、光电信号处理方向硕士生。 研究方向其科研工作的主要方向为：信息光学、微光学、微电子光学、光电子器件。 科研课题主持和主研国家自然科学基金、863计划、博士点基金、中物院基金、国家重点实验室基金等资助的国家级和省部级科研项目项，均圆满完成任务。目前正在进行的科研项目有“数字光刻新技术研究”（国家自然科学基金），“厚层光致抗蚀剂光刻术研究”（国家自然科学基金），色分离光栅研制（863计划）等多项课题。已在国内外重要学术 刊物上发表论文60多篇，其中近四十篇被SCI、EI检索收录。 学术论文近年发表的部分学术论文 Precompensation approach for improving the quality of laser direct writing patterns by a modified proximity function. Optical Engineering, 2000, 39(3): 771-775, SCI, EI New Approaches to Optical Proximity Correction in Photolithography. Microelectrionic Engineering, 1999, 46: 73-76, SCI, EI Investigation of phase shift mask distortion effect. Microelectronic Engineering, 2002, 61-62: 265-270, SCI, EI Enhancement of Photolithography Resolution by Fractional Fourier Domain Filtering. Microelectrionic Engineering，2003，67-68：31-38， EI Optical Proximity Correction by Grey Tone Photolithography. Microelectrionic Engineering, 2000, 53: 153-156； SCI, EI Coding Gray-tone Mask for Refractive Microlens Fabrication. Microelectrionic Engineering, 2000, 53: 531-534, SCI, EI Real-time photolithographic technique for fabrication of arbitrarily shaped microstructures. Opt.Eng. 2003, 42(2):477-481, SCI, EI Decomposition storage of information based on computer-generated hologram interference and its application in optical image encryption. Applied Optics, 2001, 40(17): 2860-2863 SCI A fine OPC approach with gray-tone coding mask. SPIE, 1999, 3740: 348-351, EI Modified proximity function for OPC in laser direct writing. SPIE, 2000, 4000: 1045-1052, EI New Method to Design Half-tone Mask for the Fabrication of Continuous Micro Relief Structure. SPIE, 1999, 3680: 879-886, EI Simulation of optical lithography from distorted photomasks. SPIE, 2001, 4346: 1492-1499, EI Fractional Fourier domain filtering applied to improve image quality in photolithography. SPIE, 2002, 4755:755-759, EI Interference Anti-counterfeiting Using Computer Generated Hologram. SPIE, 1999, 3749: 580-581, EI Optical Proximity Correction for Submicrometer Lithography by Laser Direct Writing. SPIE, 1999, 3679: 686-680, EI Overview of greyscale photolithography for microoptical elements fabrication, SPIE, 2003, 4984:111-117, EI 激光直写邻近效应的校正. 光学学报, 1999, 19(7): 953-957，EI 实现ICF驱动器谐波分离的二元光学元件研究. 光学学报, 2000, 20(3): 405-409, EI 分数傅里叶变换全息图及其在防伪中的应用. 光学学报, 1999, 19(6): 821-825, EI 利用纯位相计算全息图实现位相函数相加的光学安全技术. 中国激光, 2000, 27(7): 645-648, EI 用波导全息照明器实现三维漫反射物体全息图的白光再现. 中国激光, 1998, 25(12): 1103-1106, EI 用全息元件实现变形分数傅立叶变换. 中国激光, 2000, 27(8): 719-723, EI 多重分数傅里叶变换全息防伪术, 中国激光, 2002, 29(8):743-747, EI 亮暗衬线法校正邻近效应及其实验研究. 激光技术, 2000, 24(4): 213-217, EI 灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究. 微细加工技术, 2000, 2:39-44, EI 位相编码计算全息在防伪中的应用. 激光杂志, 2000, 21(1): 39-45, EI |
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