tantalum aluminium resistance film
钽和铝组成的合金薄膜。具有耐蚀性好、精度高、稳定性好和方阻可调范围宽的特点。TCR为(-105～-135)×10-6/℃，方阻为25～1000Ω。采用溅射法工艺制膜。用于制作薄膜电阻元件。
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