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词条 原子层腐蚀技术
释义

原子层腐蚀技术(ALE)是一种重要的纳米级加工技术。其基本原理是:首先在衬底表面上吸附反应气体分子,然后采用光、电子束或者离子束去激发气体分子,使得气体分子与衬底表面原子发生反应,从而去掉衬底表面的一个原子层;重复进行吸附-激发-反应,即可去掉衬底表面的多个原子层。

例如,在Si衬底表面上首先吸附一层F自由基(通过CF4和O2的混合气体进行微波放电来得到),然后采用Ar离子(可通过ECR等离子体来获得)照射衬底表面,使得F与Si反应,从而去掉衬底表面的一个Si原子层;接着,再让Si衬底表面上吸附一层F自由基,并再用Ar离子照射,这又通过形成F-Si反应物而去掉一层Si原子;如此反复进行,即可去掉Si衬底表面的数个原子层。

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更新时间:2024/12/23 21:18:28