研究室简介：微电子设备技术研究室的主要工作是综合利用微电子研究所微电子工艺优势和多年的设备研制经验进行微电子成套设备技术研究，以实现微电子设备国产化。主要的科研方向为：适用于32-22纳米技术代新原理装备研究；极大规模集成电路装备及工艺研究；利用微细加工和集成技术研究创新型原理装备；常压等离子体技术；微纳加工技术标准化研究。主要产品有：高密度等离子刻蚀机ICP、反应离子刻蚀机RIE、溅射台、PECVD、射频电源、匀胶机。这些设备已长期用于微电子、光电子、微机械等领域的各加工厂、高等院校及研究所实验室。本实验室分为四个课题组，分别为：等离子新原理装备课题组、常压等离子体课题组、射频电源课题组、微电子设备课题组。