主要用途： 适用于金属、陶瓷、半导体、矿物、生物、高分子、复合材料和纳米级一维、二维和三维材料的表面形貌进行观察（二次电子像、背散射电子像）； 可进行微区的点、线、面成分分析； 指定元素在形貌上成象； 晶体材料的晶体取向及微区取向分析、结构分析、正反极图、欧拉空间分析等； 图象定量分析(%)

仪器类别： 0304070201 /仪器仪表 /光学仪器 /电子光学及离子光学仪器 /扫描式电子显微镜

指标信息： 二次电子图像（SEI） 分辨率1.5nm 背散射电子图像（BEI) 分辨率3.0nm X射线能谱仪（EDS） 分辨率128ev 分析范围B5～U92 电子背散射衍射（EBSP）空间分辨率：0.5μm 采集时间20ms～2s/每菊池图数字图像采集系统 分辨率512×384pixe1 1024×768

附件信息： 1.二次电子探测器（SE） 5.真空镀膜机Je01 JEE-4X 9.电子干燥器 2.背散射电子探测器(BE) 6.离子溅射仪Je01 JFC-1100 10.烘干箱200℃ 3.X射线能谱仪(EDS) 7.数字图像打印机Sony U-890 11.激光打印机LEXMARKoptras1250 4.电子背散射衍射(EBSD) 8.超声波清洗仪KQ-200DF 12.激光打印机EPL-5800L