饱水带洞穴，地下水面以下的洞穴。饱水带位于地下水面以下，有深浅部之分。最上部为浅饱水带，即地下水面带，形成的洞穴叫浅饱水带洞穴，也称地下水面洞穴。那里的地下水流路最短，水的溶蚀能力强，溶洞发育较快，规模较大，个体间一般缺乏联系，多成水平溶洞。当侵蚀基准面下降、地壳抬升时，地下河便变成高悬于地下水面以上的干溶洞。如地壳多次抬升，就可形成多层水平干溶洞。这种近于水平的溶洞层，有时可与附近河流阶地的高度和年代对比；有的在溶洞内形成阶地。在深饱水带内形成的洞穴，称为深饱水带洞穴。此带溶蚀作用缓慢，形成的洞穴规模小、不规则。