概念

原理

工艺流程

设备

真空蒸镀的基材

真空蒸镀工艺对被镀基材的要求

概念

在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀，或叫真空镀膜（vacuum evaporating; vacuum evaporation）。

真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。

真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其它金属也可通过蒸发沉积。

原理

金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移，在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行，金属蒸汽到达表面不会氧化。

在对树脂实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

工艺流程

1、 脱脂处理 用丙酮或酒精进行清洗

2、 表面处理（必要时） 电晕（corona）放电处理，紫外线照射处理等。

3、 底面涂布/硬化处理（必要时）

为了得到精美的蒸镀膜，有时必须进行底面涂布处理。进行底面涂布处理可以得到以下的效果：

(1)、改善树脂与蒸镀膜之间的密接性

(2)、将成型品表面的微小凹凸部分填平，以获得如镜面一样的表面

无论是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀，还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时，都必须进行底面涂布处理。底面涂布工艺基本与涂布工艺相似。如一般的涂料一样，可以使用喷枪进行喷涂。

4、 真空蒸镀工艺 蒸镀金属为铝、金等。

5、 表面涂布/硬化处理（必要时）

由真空蒸镀所产生的金属薄膜相当的薄，为了利用外界的化学、物理等性能，以达到保护蒸镀膜的目的，有时需要实施表面涂布处理(或过量涂布)。

设备

可用的金属蒸发源包括电阻加热、感应蒸发、电子束枪，以及真空电弧。电阻加热的钨丝是最常用的方式。钨丝放置于要求位置，获得均匀的覆盖，铝屑或切段放置在钨丝上。蒸发金属也可放置在加热艇或坩锅内。

蒸镀通常可以在圆柱形涂镀室内分批进行。涂镀室直径可达几米，取决于涂镀零件的大小和数量。零件可以绕蒸汽源做行星运动，以在零件各边均匀地涂镀金属层。如果需要的话，不需涂镀的区域可使用隔膜，通常是金属板。

真空蒸镀的基材

真空蒸镀的基材主要是常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和纸张类。除了薄膜和纸张外，真空蒸镀广泛应用于塑料、金属、陶瓷、合成树脂、蜡、木材等制品，产品应用范围涵盖以下几个方面：1、礼品、饰品、工艺品；2、装饰装潢产品；3、各种灯具反光罩；4、电子产品；5、包装用品等。

真空蒸镀工艺对被镀基材的要求

（1）耐热性好，基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。

（2）从薄膜基材上产生的挥发性物质要少；对吸湿性大的基材，在镀膜前理。

（3）基材应具有一定的强度和表面平滑度。

（4）对蒸镀层的粘接性良好；对于PP、PE等非极性材料，蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。