词条 | 真空镀 |
释义 | 简介真空镀 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。 真空蒸镀:在高真空下,通过金属细丝的蒸发和凝结,使金属薄层附著在塑胶表面。 真空蒸镀过程中金属(最常用的铝)的熔融,蒸发仅需几秒钟,整个周期一般不超过15MM,镀层厚度为0.8-1.2uM. 设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面,锐角和锐边。凹凸图案、纹理或拱形表面效果最佳。真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。 不过镀层附着力比水镀差很多。 A9手机的面壳镀铜后镀LOU,共10μ,镀LOU层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲,表面硬度较低,但污染较小。真空镀不导电 应用目前水电镀在重工业上应用较多(汽车等),而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。 如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级,那么水电镀将要消失了。 目前很多手机上的金属外观件,都采用PVD真空离子镀,不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵,成本较高。 溅射镀:磁控溅射镀膜设备: 磁控溅射镀膜设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可根据用户要求配 置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等, 组态灵活、用途广泛,主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、 铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜,所镀膜层均匀、 致密、附着力强等特点,可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯 反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。 a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,靶材利用率达到70~80% 以上,基体镀膜均匀,色泽一致。 b平面磁控溅射镀膜机; c中频磁控溅射镀膜机; d射频磁控溅射镀膜机。 可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢及金属反应物(氧化 物、氮化物、炭化物)、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附著力好等特点。 一、 单室/双室/多室磁控溅射镀膜机 该镀膜机主要用於各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业,在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)等 制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。 技术指标: 真空室尺寸:可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室 极限压力:8×10-4Pa 恢复真空度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 3或8min(根据用户要求定) 工作真空度:10~1.0× 10-1Pa 工艺气体进入装置:质量流量控制器(可选配自动压强控制仪) 转动工件架形式:公 / 自转工件架 溅射源:矩形平面溅射源(1~4个)/柱状溅射源(1个)/混合溅射源 可以选配:基片烘烤装置;反溅射清洗 二、单室/双室/多室磁控反应溅射镀膜机 该镀膜机主要用於太阳能吸热管所需要的镀膜涂层(如Al—N/Al或Cu—C/1Cr18Ni9Ti);高级轿车後视镜镀膜 (蓝玻);装饰仿金、七彩镀膜;透明导电膜(ITO膜);保护膜。 技术指标: 真空室尺寸:可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室 极限压力:8×10-4Pa 恢复真空度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 15min(根据用户要求定) 工作真空度:10~1.0× 10-1Pa 工艺气体进入装置:质量流量控制器(可选配自动压强控制仪) 工作气路:2路或3路 转动工件架形式:公 / 自转工件架 溅射源:矩形平面溅射源(1~4个)/柱状溅射源(1个)/混合溅射源 三、多功能镀膜机 设备基本配置: 真空室 工件转动系统 真空抽气系统 工作气体供气系统 溅射系统:平面溅射/柱状溅射/中频溅射/射频溅射系统 动系统 控制系统 冷却系统 技术指标: 真空室尺寸:φ600×800 φ850×1000 φ1000×1200 φ1100×1500 可以根据用户的要求设计成箱式 极限压力:8×10-4Pa 恢复真空度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa ≤ 15min(根据用户要求定) 工作真空度:10~1.0× 10-1Pa 工艺气体进入装置:质量流量控制器(可选配自动压强控制仪) 工作气路:2路或4路 转动工件架形式:公 / 自转工件架 溅射源:矩形平面溅射源(1~4个)/柱状溅射源(1个)/中频溅射源/射频溅射源/混合溅射源 用途:本设备应用磁控溅射原理,在真空环境下,在玻璃、陶瓷等非金属;半导体;金属基体上制备各种金属膜、合 金膜、反应化合物膜、介质膜等等。 四、实验系列磁控溅射镀膜机 技术指标: 真空室:φ450×400 极限压力:5×10-5Pa 工作压力:1~1.0× 10-2Pa 真空系统主泵:涡轮分子泵 阴极靶数量:2~5个 工作气体控制:质量流量控制器,自动压强控制仪 工作气路:2路或4路 靶电源:直流磁控溅射源(10000W), 中频电源(10000W), 射频电源(2000W)。 工件转动:行星式公自转 工件负偏压:/ 性能特点:磁控靶数量多,靶材种类变化大,各种参数变化范围大,所镀制膜层有金属、合金、化合物,可镀制单 层或多层膜。 五、中频磁控溅射镀膜机 中频磁控溅射镀膜技术是磁控技术另一新里程碑,是镀制化合物(氧化物、氮化物、碳化物)系膜的理想设备, 彻底克服了靶打弧和中毒现象,并具溅射速率快、沈积速率高等优点,适合镀制铟锡合金(ITO)、氧化铝(AL2O3) 、二氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(Si3N4)等,配置多个靶及膜厚仪,可镀制多种多 层膜或合金膜层。 六、射频磁控溅射镀膜机 具有溅射速率高,能镀任何材料(导体、半导体和介质材料)。在低气压下等离子体放电,膜层致密,针孔少。 主要技术参数 真空室尺寸:F500´450(mm) 极限真空度:优於4´10- 4 Pa (3´10- 6Torr) 溅 射 靶: F 100mm磁控溅射源三只溅 射功率: 直流5千瓦,射频2千瓦 |
随便看 |
百科全书收录4421916条中文百科知识,基本涵盖了大多数领域的百科知识,是一部内容开放、自由的电子版百科全书。