| 词条 | 干式足浴装置 |
| 释义 | § 干式足浴装置 干式足浴装置，其包含有加热恒温装置、介质容器、及足浴介质；该加热恒温装置置于底部，其上置放导热板，介质容器置于导热板之上，该足浴介质置于该介质容器之内。该加热恒温装置包含有承重底座、置放于该承重底座上的热系统、以及用于控制热系统温度的控制系统。本实用新型采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠作为介质，其吸热快，散热慢。在介质的底部采用多功能加热恒温装置，温度范围可以在 30-200℃之间任意设定。其还具有使用方便、节水节能；避免细菌感染；可长时间、全方位进行干式足部温烤、按摩等诸多优点。 § 相关条目 |
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