等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面，工件凸起处电流冲击高而去除快，电流流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平。

等离子抛光原理

等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。溶液不参加化学反应,成本低,与传统的化学电解抛光相比,成本非常低.

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子纳米化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质.

等离子抛光和电解抛光的适用行业：

手机电子、集成电路制造、运动器材（高尔夫球具）、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、医疗器械、手表饰品、汽车配件、LED制程、数码配件、精密模具、航空航天及五金制品等行业。