准分子激光气体简介

主要机型所需准分子激光气体

准分子激光气体简介

工业技术的升级转型需要平衡日益增长的性能需求与加工速度及制造成本之间的矛盾。准分子激光的诞生，以其高光子能量所称著，在对突破材料限制需求越来越迫切的时代，准分子激光器再次站在了尖端工业激光解决方案的最前沿。作为当今最有效、最可靠的脉冲紫外激光技术的代表，准分子激光器有效地推进了诸如半导体、AMOLED平板显示、薄膜、硅底板加工、有机金属沉淀、高温超导、刻蚀、材料研究、汽车制造、生物医疗、光纤、钻石打标设备及可替代能源等多种成长型工业中的技术革新。准分子激光气体是用于准分子激光设备中的激光发生器的关键气体。

高功率准分子激光气体

可用波长　193 nm　ArF

248 nm　KrF

308 nm　XeCl

450nm~520nm　XeF

最大紫外功率　540 W

最大紫外能量　1100 mj

重复频率　可变，1~600 Hz

脉冲稳定性　0.5%~1%，rms

长期漂移　0.1%~0.5%，rms

光束分布　均匀，平顶

脉冲宽度　10~20 ns

相关气体纯度　F2, 99.9%Ar, 99.9999%He, 99.9999%Ne, 99.9999%HCl, 电子级Kr, 99.999%Xe, 99.999%O2, 99.999%H2, 99.999%

气体工作温度　- 40 C ~ + 74 C

气体压力　520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar

钢瓶规格　10L、16L、20L、50L

阀门接口　CGA 679、CGA 330、CGA 580、DIN 6、DIN 8、DIN 14

安全手册　请在本公司网站阅读或下载。

主要机型所需准分子激光气体

品 牌　机 型　波 长　准分子激光气体

ATL　ATL ARF-1　193 nm　F2,Ar,Xe,Ne

ATL KRF-1　248 nm　F2,Kr,Xe,Ne

TUI　CTFTS-ARFV 2.2　193 nm　F2,Ar,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.1　248 nm　F2,Kr,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.2　248 nm　F2,Kr,He,Xe,Ne

CTMD-ARFV 2.0　193 nm　F2,Ar,He,O2,Ne

CTMD-XECLV 2.1　308 nm　HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-ARFV 2.0　193 nm　F2,Ar,He,Ne

CTMN-ARFV 2.1　193 nm　F2,Ar,He,Ne

CTMN-KRFV 1.0　248 nm　F2,Kr,He,Ne

CTMN-KRFV 2.0　248 nm　F2,Kr,He,Ne

CTMN-XECLV 2.0　308 nm　HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XECLV 5.0　308 nm　HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XEFV 1.1　450nm~520nm　F2,Xe,He,Ne

CTMN-XEFV 1.2　450nm~520nm　F2,Xe,He,Ne

GAM Laser　EX5 ArF　193 nm　F2,Ar,He,O2,Ne

EX5 KrF　248 nm　F2,Kr,He,Ne

EX5 XeCl　308 nm　HCl,H2,Xe,Ne

EX10　193 nm　F2,Ar,He,Ne

EX50　193 nm　F2,Ar,He,Ne

EX100　193 nm　F2,Ar,He,Ne

Photomedex　XeCl　308 nm　HCl,Xe,Ne

Photoscribe　ArF　193 nm　F2,Ar,Ne

KrF　248 nm　F2,Kr,Ne

PotomacPhotonics　ArF　193 nm　F2,Ar,Ne

KrF　248 nm　F2,Kr,Ne

Spectranetics　XeCl　308 nm　HCl,H2,Xe,Ne