微影技术(Lithography)是制造晶体管及它们之间的连结的关键技术，其主要是指利用一定波长的紫外线透过掩膜(mask)后照射在硅晶元上，将掩膜上的电路图像完整地复制到硅晶元上从而形成所需要的电路图形的过程。掩膜其实可以看作是CPU内核电路的微缩“底片”，厂商事前先将一幅有着非常复杂的设计模型的原图缩小成极细微的蚀刻掩膜。未曝光的光阻剂经化学处理及烘烤而硬化，因此能保护阴影下的区域稍后的化学蚀刻。