| 词条 | 实用X射线光谱分析 |
| 释义 | 基本信息书名：实用X射线光谱分析 . 编著：杨明太编著I SBN：9787502242664 出版社：原子能 2009-04-01 第1版 2009-04-01 第1次印刷 开 本：16开 字数：357千字 页 数：222页 类 别： 数理化学科 -> 数理化学科 -> 化学、晶体学 内容简介本书是介绍X射线光谱分析技术的综合性参考书。本书共分三篇十一章，分别对X射线光谱分析的基本原理、X射线物理，X射线荧光光谱分析，全反射X射线荧光光谱分析，质子激发X射线光谱分析和电子探针显微分析做了全面的介绍。讲述了在实际应用中需掌握的基本理论和必要的数学公式，另外，还介绍了X射线光谱分析的常用分析方法和应用成果，简述了该领域的新技术和新进展。本书从实际角度出发，不求内容的完备高深，但求简洁实用为主要目的。本书可供从事X射线光谱分析的工作者使用，亦可为有关部门和仪器研制人员提供参考。 目录第一篇 X射线光谱分析基础 第一章 X射线物理学基础 §1.1 X射线光谱分析的发展简史 §1.2 X射线 §1.3 X射线的产生 §1.4 X射线谱 §1.5 X射线与物质的相互作用 §1.6 X射线荧光强度的理论计算 参考文献 第二章 X射线光谱分析概述 §2.1 术语 §2.2 X射线光谱分析的基本原理与特点 §2.3 X射线光谱仪的分类 §2.4 X射线光谱分析的现状与发展 参考文献 第三章 特征X射线的激发 §3.1 概述 §3.2 X射线管激发 §3.3 放射源激发 §3.4 加速粒子激发 §3.5 不同激发方式的性能比较 参考文献 第二篇 X射线荧光光谱分析 第四章 波长色散X射线荧光光谱分析 §4.1 概述 §4.2 X射线的波长色散(晶体分光) §4.3 探测 §4.4 测量 §4.5 谱仪性能测试 §4.6 波长色散X射线荧光光谱仪现状及其应用 参考文献 第五章 能量色散X射线荧光光谱分析 §5.1 概述 §5.2 谱仪基本结构 §5.3 滤波选择 §5.4 二次激发 §5.5 探测器 §5.6 能谱采集 §5.7 WDXRF谱仪与EDXRF谱仪的区别 §5.8 谱仪性能测试 §5.9 能量色散X射线荧光光谱仪的现状及其应用 参考文献 第六章 样品制备 §6.1 概述 §6.2 固体块样的制备 §6.3 粉末样的制备 §6.4 熔融样的制备 §6.5 溶液样的制备 §6.6 特殊样品的制备 参考文献 第七章 定性分析和半定量分析 §7.1 概述 §7.2 定性分析 §7.3 半定量分析 参考文献 第八章 定量分析 §8.1 概述 §8.2 外标法 §8.3 内标法 §8.4 增量法 §8.5 数学校正法 §8.6 波长色散谱仪定量分析条件的设定 §8.7 能量色散谱仪定量分析条件的设定 §8.8 X射线荧光光谱定量分析中的不确定度 参考文献 第三篇 其它X射线光谱分析 第九章 全反射X射线荧光光谱分析 §9.1 概述 §9.2 TXRF基本原理和装置 §9.3 全反射X射线荧光光谱仪 §9.4 全反射X射线荧光分析的基本特点 §9.5 全反射X射线荧光光谱分析的应用与展望 参考文献 第十章 电子探针显微分析 §10.1 概述 §10.2 仪器构造与工作原理 §10.3 电子探针显微分析仪的分析方法及应用 §10.4 电子探针显微分析仪性能测试 参考文献 第十一章 质子激发X射线光谱分析 §11.1 概述 §11.2 质子激发X射线光谱分析装置 §11.3 质子静电加速器 §11.4 PIXE真空分析靶室 §11.5 PIXE非真空分析装置 §11.6 PIXE分析样品制备 参考文献 附录 附录1 K壳层临界及激发能和K系特征X射线能量 附录2 K壳层I临界吸收限和K系特征X射线波长 附录3 K系特征X射线相对强度和K壳层荧光产额 附录4 L壳层临界激发能和L系特征X射线能量 附录5 L壳层临界吸收限和L系特征X射线波长 附录6 L系特征X射线相对强度和壳层平均荧光产额 附录7 M系特征X射线波长 附录8 M系特征X射线能量 |
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