湿式制程化学台

Wet Station

应用于半导体清洗方面的设备，湿式制程化学台产于美国。湿式制程化学台有标准型和更优的，标准型湿式制程化学台使用于一般要求，更好的湿式制程化学台具有优良性能。是一种灵活，安全和实惠的研发工具，湿蚀刻清洗设备EDC 系列常被应用在以溶剂和水为基础的处理过程：蚀刻-清洗-干燥，开发-冲洗-干燥，以及利用溶剂和水的清洗。其旋转涂敷机部分，具有多种板载滴胶阀的零孔隙度特富龙流体路径等特点，干净的ECTFE圆顶盖使用户能够实时观察过程的安全运行。

EDC 系统具有可编程阀，它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻，开发和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等最后的处理步骤。蚀刻/显影/清洗全套系统采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。