词条 | 李兴鳌 |
释义 | 人物介绍简况李兴鳌,男,湖北利川人,土家族,南京邮电大学教授、博士。 学习工作经历本科、硕士、博士分别毕业于湖北大学物理学专业、中南民族大学等离子体物理学专业、华中科技大学材料物理与化学专业。1984年7月在湖北民族学院参加工作。1996年1月晋升为副教授,2001年1月晋升为教授。1998年被评为湖北省跨世纪学术骨干,2004年被评为湖北省有突出贡献中青年专家。现为湖北省物理学会理事、《大学物理》杂志编委。2008年8月开始在南京邮电大学工作。 教学成果主要在光学、材料物理与化学、等离子体物理、凝聚态物理、大学物理教学、自然辩证法等领域有较深入的探讨。先后在《Journal of Physics D》、《Journal of Material Science & Technology》、《Plasma Science & Technology》、《Nanoscience》、《物理》、《大学物理》、《自然辩证法研究》等国内外学术刊物上发表了学术论文40多篇。其中SCI、EI、ISTP三大检索收录10余篇。获全国首届大学物理教学优秀论文奖一项、湖北省自然科学优秀学术论文奖一项。主编教材一部,参加国家自然科学基金项目两项,主持国家民委重点项目一项,主持和参与湖北省教育厅科研项目六项。 研究领域与成果研究方向主要研究领域为光学、凝聚态物理、材料物理等学科领域,研究方向为光电信息材料与器件。 教学培养主讲课程硕士研究生课程“数学物理方法”,本科生课程“量子与统计物理”、“量子力学”、“大学物理”、“物理学前沿与发展”等。 目前指导硕士研究生9名。 奖励与荣誉1、1998年湖北省教育厅批准为湖北省跨世纪学术骨干; 2、2002年获全国首届大学物理教学优秀论文三等奖一项; 3、2002年获湖北省第九届自然科学优秀论文三等奖一项; 4、2004年获“湖北省有突出贡献中青年专家”称号; 5、2008年获湖北省第十二届自然科学优秀论文二等奖一项; 6、2009年获湖北省优秀教学成果三等奖一项 主要学术成绩长期从事光电功能薄膜材料的制备及应用研究,对磁控溅射制备半导体薄膜、多铁性薄膜有所研究,尤其对磁控多靶反应共溅射制备掺杂薄膜有较多的研究。近年来,在国内外期刊上公开发表论文40余篇,主持和参与科研项目10余项,申请专利3项。 主要研究项目1、 化学气相沉积法制备石墨烯的衬底选择与生长调控(BK2010525),江苏省科技厅自科基金项目,2010,09 -2013,09,主持; 2、 磁控多靶反应共溅射制备金属掺杂氮化铜薄膜研究(08HB05),国家民委项目,2008,01 -2009,12,主持; 3、 磁控溅射制备铁电磁薄膜研究(D200629002),湖北省教育厅自然科学重点项目,2006,01 -2008,12,主持; 4、 金属掺杂氮化铜薄膜研究(NY208025),南京邮电大学引进人才项目,2009,01 -2010,12,主持; 5、 直流磁控溅射沉积薄膜的计算机模拟研究(D200529002),湖北省教育厅自然科学重点项目,2005,01 -2007,12,参与。 代表性著作[1] Xing-Ao Li, Zu-Li Liu, Zuo-Bin Yuan, An-You Zuo, Jian-Ping Yang, Kai-Lun Yao. Study on Cu-X-N (X= Al, Fe and La) films prepared by reactive magnetron sputtering, Nanoscience, 2006, 11(4)276-280. [2] Li Xing’ao, Liu Zuli, Zuo Anyou, Yuan Zuobin , Yang Jianping, Yao Kailun. Study on Al-doped copper nitride films prepared by reactive magnetron sputtering, J. Wuhan University of Technology -Mater. Sci. Ed. 2007, 22(3)446-449. [3] Li Xing’ao, LIU Zuli, YAO Kailun, Reactive DC magnetron sputtering deposition of copper nitride thin film, Journal of Materials Science & Technology. 2007,23(4) 468-472. [4] Li Xing’ao, Yang Jianping, Liu Zuli, Zuo Anyou, Yuan Zuobin, Yao Kailun. Study on La-doped copper nitride films prepared by reactive magnetron sputtering, Journal of Materials Science & Technology, 2009, 25(2)233-236. [5] Xing’ao Li, Zuli Liu, Anyou Zuo, Zuobin Yuan, Jianping Yang and Kailun Yao. Bi4-xLaxTi3O12 ferroelectric thin films prepared by RF magnetron sputtering,Key Engineering Materials Vols. 2008:368-372 |
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