| 词条 | 驰豫时间 |
| 释义 | 驰豫时间 弛豫时间(relaxationtime)即达到热动平衡所需的时间。 热动平衡即因不同体系间的热量传递趋于温度相等而最终导致的动态平衡 人们把非平衡态向平衡状态恢复的过程称为弛豫过程。比如原子核从激化的状态回复到平衡排列状态的过程，又比如汽缸中的气体从突然被压缩到放出热量趋于稳定的过程。弛豫过程一般遵循指数变化规律，其时间常数就是弛豫时间。理想气体是忽略气体分子相互作用的气体，弛豫时间为零，而实际气体的弛豫时间一般在毫秒量级。 § 作用 1 。 Softbake 的目的主要是把里面的溶剂挥发掉，做完之后可能还会有 4-7% 的溶剂SB 和 Exposure 之间的驰豫应该是为了释放应力，因为毕竟溶剂成分不一样了还是会有比较大的应力变化。 2 。 Exp 和 PEB 之间的 delay 。如果用的是化学放大胶的话，就需要一步 PEB 。而且在 Exp 和 PEB 之间的时间延迟叫 post bake delay ， PED 。我记得这个时间是不希望有的，而且光刻所用的波长越短，这个要求越严格。这个应该是为了防止光酸在 PED 内不应该有的扩散。 3 。 PEB 和 DEV 之间的延迟？这个我不记得了。做过 PEB 之后其实就有潜像了， latent image 。这个时候应该反应已经差不多了吧。好像我看别人写的 recipe 没有这个时间延迟的。至少可能不会是很长，小于从 PEB 出来后，在 Dev module 旁边的 chill plate 上呆的时间。而这个时间，我觉得就是为了冷却而已。 【 在 hdluliang (hdluliang) 的大作中提到 : 】 驰豫时间 在整个光刻过程中 , 有好多驰豫时间 , 而且不同的文献中 , 驰豫时间又各不相同 . 比如 SB 与 EXP 有一段驰豫时间 ,EXP 与 PEB 之间有一段驰豫时间, PEB 与 DEV 之间又有一段驰豫时间 . 这些驰豫时间在整个光刻工艺中都起什么作用呀 ? § 试分析 tpwr：观察道发射机功率,功率大信号就强 dof：去偶机偏置，这个是去偶的位置，比如是哪个氢原子去偶，或者对哪一个区域进行去偶 dm：去偶方式，nnn,nny,nyn,ynn......。nnn为不去偶，yyy为全程去偶，nny为反门控去偶等 dmm：去偶调整方式，这个又是作什么用的呢？比如walz去偶，c去偶等 dpwr：去偶功率，这个大了小了，会有什么影响？小了会去不干净，还可能会看到偶合 |
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