杨铁三 男，1936年8月生。高级工程师。毕业于哈尔滨工业大学。曾任职于中国 科学院电工所。中国电工技术学会会员。参加国防科委重点项目“光电跟踪线切割机床”研 制，获全国科学大会奖，参加北京市重点项目“毫米离子注入机”研制获全国科学大会奖； 负责“型腔模电加工机床”研制，获中科院重大成果奖，负责“电子束投影曝光技术”研制 ，属国内先进；负责“受控电弧离子镀膜设备和技术”研制，获中科院重要成果奖，属国内先进水平；“碳氮化钛系列镀层离子镀工艺”获国家发明专利，为第一发明人。