简介

性能和优势

典型应用

简介

由德国Centrotherm thermal solutions生产的高温炉Activator 150设计用于SiC或GaN器件注入后退火，独特工艺炉管和加热系统设计允许工艺温度达到 1850 ℃. Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺. Activator 150-5 是为研发工作而特制的, 而Activator 150-50 专为大批量生产而设计。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。该工艺也是Activator 150 在圆片区域石墨的生成尺寸可能达到直径 150 毫米

性能和优势

· 高活化效率 · 最小表面粗糙度

· 最大温度可达 1850 ℃

· 占地少 [1.8 m2]

· 升温速率可达 100 K/min

· 批处理包括 2″，3″, 100 mm, 150 mm

· 批处理数量达到 40 片硅片[2″], 50 片硅片 [150 mm]

· 真空度小于10-3 mbar [可选]

· 可并排安装石墨烯生长

典型应用

· 注入后高温退火

· [3C, 4H, 6H器件，传感器]

· GaN 退火· 大面积石墨烯形成

· SiC 表面制备[例如碳化]