| 词条 | 集成电路工艺和器件的计算机模拟 |
| 释义 | 图书信息书 名: 集成电路工艺和器件的计算机模拟 作 者：阮刚 出版社： 复旦大学出版社 出版时间： 2007年03月 ISBN: 9787309053647 开本： 16开 定价: 36.00 元 内容简介集成电路工艺和器件的计算机模拟，国际上也称作IC TCAD，是少数几种有能力缩减集成电路开发周期和研制费用的技术之一。 《集成电路工艺和器件的计算机模拟-IC TCAD技术概论》以介绍集成电路工艺和器件的模拟器为主线，概论IC TCAD技术早期的可实用的成果、随后的多方面发展、当今的研究进展和商用化现状，以及近期和远期的困难挑战和能力需求。 《集成电路工艺和器件的计算机模拟-IC TCAD技术概论》适用于大学微电子或其他相关专业的硕士／博士研究生或高年级本科生作教材或教学参考书。《集成电路工艺和器件的计算机模拟-IC TCAD技术概论》作为一本IC TCAD技术的入门书，也适用于有需要或有兴趣在IT领域工作的研发、生产和管理人员。 作者简介阮刚，复旦大学教授，微电子及固态电子学专业博士生导师。1956～1958年在北京大学加入五校半导体联合教研室，参与创办我国第一个半导体专业，1960年初在复旦大学领导一个青年科研组，研制成功了我国第一批锗集成电路。长期从事半导体器件工艺、物理、模型和模拟的教学和研究工作，已合作编译出版专业书5本，单独和合作发表论文200余篇。曾是美国Illinois大学高级访问学者，新加坡Nanyang理工大学访问教授，德国chemnitz技术大学顾问教授及德国Fraunhofer微集成研究所高级科技顾问。 图书目录前言 第一章 引言 第二章 集成电路的工艺模拟 第三章 半导体器件的一维模拟 第四章 半导体器件的二维模拟 第五章 集成电路工艺和器件模拟的发展现状和未来需求 附录 …… |
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