光纤材料的折射率不均匀造成的损耗。
在工艺里面，对于刻蚀工艺，均匀性是衡量刻蚀工艺在整个晶片上，或整个一批，或批与批之间刻蚀能力的参数。对于镀膜工艺，均匀性是用来衡量镀膜的膜厚是否一致的参数。NU%=（Emax—Emin）/Eave
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