概述

光化学腐蚀 photochemical etching

在器件表面涂以感光树脂，增感剂，抗蚀剂等，利用光照后树脂溶解性的显著变化，对光照区进行控制，使表面得到所需图像的一种方法，又称光刻。

具体方法

光化学腐蚀处理中，感光后用溶剂将不需要的抗蚀剂除去，将具有一定图形的涂层进行固化，再用腐蚀剂对加工的材料进行保护性腐蚀。一般有两类：一为涂层曝光显影后，曝光部分溶解，未曝光部分留下；另一为未曝光部分溶解，曝光部分留下。

用途

目前，光化学腐蚀方法在电子工业中被广泛利用，如集成电路的制造等。