低压纯化器（Low Pressure Purifier）

气体工业名词，在低压下脱除气体中杂质的装置。在半导体工业中，低压纯化器用于在线纯化氮，氢，氧，氩，氦及某些品种的电子特种气体。目前，纯化后杂质含量可达1029级，有的甚至达10212级。70年代，世界集成电路制造厂所用的纯化器以触媒方式为主，由于触媒的改进和新触媒的开发，新型纯化装置不断涌现。目前所用吸附剂主要是各种分子筛；催化剂有Ni型，Pd型，Pt型；也有采用锆型吸气剂的。一般纯化器入口压力015MPa，出口压力为014MPa，处理气量多为012～300m3h。