场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP

用途：

技术参数:

场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP

SUPRA 40是一款高分辨率场发射扫描电子显微镜，拥有第三代GEMINI 镜筒，可变压强性能加上多种纳米工具的使用，不用花费大量时间，使高分辨率成像和非导体样本的分析成为可能，超大的样品室适合各种类型探头及配件的选择。该场发射电镜适用于材料领域、失效分析、过程控制，纳米技术等。

用途：

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代专利镜筒(GEMINI)设计，具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上唯一真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器，具有最佳的灵敏度和最高的接收效率，而且只接收来自样品表面的二次电子，因此具有业界最高等级的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上，试样的工作距离不受背散射探测器的影响，可以非常接近极靴，这样可以同时获得最高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率，且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜，杂散磁场小，可对铁磁体样品进行高分辨率成像。

技术参数:

分辨率： 1.0nm @ 20KV

1.3nm @ 15KV

2.1nm @ 1 KV

5.0nm @ 0.2KV

2.0nm @ 30KV(VP mode)

放大倍数： 12 - 900,000x

加速电压： 0.1 - 30 KV

低压范围： 2-133Pa 1Pa步进可调

探针电流： 4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可选)

样品室： 330 mm (Ø) x 270 mm (h)

样品台： 5轴驱动

X = 130mm

Y = 130 mm

Z = 50mm

倾斜角T = -3 to 70°

R = 360°连续旋转

系统控制： 基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制