epitaxial gases

气体工业名词，半导体工业中在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种，即硅烷，二氯二氢硅，三氯氢硅和四氯化硅，主要用于外延硅淀积，多晶硅淀积，淀积氧化硅膜，淀积氮化硅膜，太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。