§ 简介
湿蚀刻设备，包括呈顺序排布的：
§ 其包括呈顺序排布的
：一承载与缓冲区，一第一蚀刻室，一采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室，一第二蚀刻室，一漂洗与干燥传送区。
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