在芯片制造过程中，光学光刻是一个非常重要的组成部分。光刻的主要目的是，利用光在半导体硅片上刻出所需要的图形。光学光刻可以分成两部分。曝光工具在圆片表面产生掩模图形，它的设计和工作是光学系统设计的主要问题。另一半是化学过程，一旦辐照的图形被光刻胶吸收和图形被显影时，化学过程就发生了。通过掩模上分离线条的光线形成照射圆片表面的辐照图形，它也成为掩模的实像。所讨论的工具都是光学工具。它们应用可见光，紫外光（UV），深紫外光（DUV）或极深紫外光（EUV）作曝光光源。它们又称为对准机（aligners)。