对映体超量
Enantiomeric excess
意为对映体超量，即在手性合成中，生成目标产物（某一种特定的立体异构体）的百分含量减去副产物（另一种异构体）的百分含量。
例如，ee%为98%，即表示生成的目标产物的含量为99%。
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