连续脱溶 或称连续沉淀，是指单相脱溶过程在母相中各处同时进行，这通常是在过饱和程度比较低的情况下发生，或者在沉淀相与母相错配度比较大的合金中出现。脱溶分解时母相成分连续地由过饱和状态向饱和状态转变，母相的晶粒外形和取向均不改变的一种脱溶分解。连续脱溶又可分为二类：①均匀脱溶。指沉淀相在母相晶粒内均匀分布，与母相常有一定位向关系。常见的是平行于基体低指数面呈片状魏氏组织形貌；②不均匀的脱溶。指在晶界、滑移带、非共格孪晶界等处优先形核，析出过渡沉淀相或稳定的沉淀相。

脱溶是指在过饱和固溶体中，呈溶质原子发生偏聚，并沉淀析出新相的现象。